【楼上上蠢而不自知，照
国
速度，
旦有
国产euv，两三年内必定建成比美国还完善半导体产业链！】
【说没
【保守估计，明年下个季度。但也有可能,今年年底可实现国产euv验收。】
【！！！不是还有其他子系统设备没研发出来吗？】
【只要最关键光源系统设备和双工作台系统研发出来,其他问题被解决只需要时间和人手。】
【看来还是没人知道13.5nm光源系统设备被研发出来到底意味着什
！】
【所以你能说明白吗？】
研究生贴在电子发烧友论坛里火,连翻十几页，盖栋两千层大楼，楼里都是来求证半导体圈内人。
【13.5nm光源系统设备专利注册……吹吧,吹到牛皮破说不定国外人真相信。】
【专利都申请,不可能有假吧？】
【建议你查查汉芯事件,当年凭块美国二手芯片在国内注册专利，狂揽十几亿。学术圈造假比比皆是，诺贝尔奖都能造假,何况个专利？】
【要真是13.5nm光源系统设备被研发出来，堪比euv国产光刻机就能造出来吧？国多久能追上asml？】
【春城和申市两大光机所接下光学子系统研发（就是高精度镜头）,水木大学研发团队负责双工作台系统（工程已验收）,南大光电是光刻胶，蓝河科技接下光源系统科学专项，申市微电子科技负责最终组装……蓝河科技已跟申市微电子科技达成合作！】
【说得再简单点，研发出13.5nm光源系统设备就意味着极紫外光刻机最迟明年定能验收！】
【只关心点,美帝芯片制裁是不是再也不能威胁到国？】
【说再多光刻机，国半导体产业不如美帝发达完善。】
【emmm……美狗来？国外不够你舔，国内发疯？】
【傻吗你？人家asml四五十年前开始研究光刻机，集齐全球两千多名顶级工程师，镜头用德国蔡司，光源用美国cymer，垄断双工作台技术……国追上现在asml至少需要二十年！】
【国虽然不至于举国之力研发光刻机，但这方面也布局二十多年,不至于被asml比到尘埃去吧？】
【申市微电子科技目前只能造出90nm工艺制程光刻机，还不确定是否能量产，你说差距多大？】
【怎歪楼？不是涛13.5nm光源系统设备是否真被研发出来吗？】
【假如！假如13.5nm光源系统设备被研发出来,国多久能拥有台国产euv？】
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