in-elmer-micralign-projection-mask-alignment-system"target="_blank">https://www.chiphistory.org/154-perkin-elmer-micralign-projection-mask-alignment-system。丹尼尔·P.伯班克（DanielP.Burbank），《制造几乎不可能
微芯片》（TheNearImpossibilityofMakingaMicrochip），《发明与技术》（InventionandTechnology），1999年秋季。亚历克西斯·C.马德里加尔（AlexisC.Madrigal），《最高机密：关于美国中央情报局冷战间谍卫星简报》（TOPSECRET:YourBriefingontheCIA'sCold-WarSpySatellite，“BigBird”），《大西洋》（Atlantic），2011年12月29日。马克，《光学光刻工具供应商里程碑》（MilestonesinOpticalLithographyToolSuppliers），透镜制造商是德国卡尔·蔡司（CarlZeiss）和日本尼康（Nikon），尽管美国也有
些专业透镜制造商。珀金埃尔默公司（PerkinElmer）是康涅狄格州诺沃克家小型制造商，曾在第二次世界大战期间为美国军方制造炸弹瞄准器，并为冷战时期卫星和间谍飞机制造透镜。该公司意识到这项技术可以用于半导体光刻，并开发
种芯片扫描式光刻机，该光刻机可以凭借近乎完美精度让光刻光源对准硅片，这点至关重要。这台机器像复印机样在晶圆上移动光线，将光刻胶覆盖晶圆逐曝光。珀金埃尔默公司扫描式光刻机可以制造出栅长接近1微米（百万分之米）芯片。
克雷格·
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