异,大约与莱思罗普的灯泡和西盟的锡滴喷射系统之间的差异一样巨大。
C.蒙特卡姆(C.Montcalm),《极紫外线光刻的多层反射涂层》(MultilayerRelectiveCoatingsforExtreme-UltravioletLithography),能源部科学技术信息办公室,1998年3月10日,https://www.osti.gov/servlets/purl/310916。《彼得·库兹博士访谈:“击中月球上的高尔夫球”》(InterviewwithDr.PeterKurz:“HittingaGolfBallontheMoon”),《光子学世界》(WorldofPhotonics),https://world-of-photonics.com/en/newsroom/photonics-industryportal/photonics-interview/dr-peter-kuerz/。《蔡司——为明天的微芯片开辟新天地》(ZEISS:BreakingNewGroundfortheMicrochipsofTomorrow),蔡司集团,YouTube视频,2019年8月2日,https://www.youtube.com/watch?v=XeDCrlxBtTw。蔡司面临的主要挑战是EUV难以反射。13.5纳米波长的EUV更接近X射线而不是可见光。与X射线一样,许多材料吸收EUV,而不是反射EUV。蔡司开始开发由100层交替的钼和硅制成的反射镜,每层厚度为几纳米。劳伦斯·利弗莫尔国家实验室的研究人员在1998年发表的一