异，大约与莱思罗普
灯泡和西盟锡滴喷射系统之间差异
样巨大。
C.蒙特卡姆（C.Montcalm），《极紫外线光刻多层反射涂层》（MultilayerRelectiveCoatingsforExtreme-UltravioletLithography），能源部科学技术信息办公室，1998年3月10日，高尔夫球”》（InterviewwithDr.PeterKurz:“HittingaGolfBallontheMoon”），《光子学世界》（WorldofPhotonics），微芯片开辟新天地》（ZEISS:BreakingNewGroundfortheMicrochipsofTomorrow），蔡司集团，YouTube视频，2019年8月2日，主要挑战是EUV难以反射。13.5纳米波长EUV更接近X射线而不是可见光。与X射线样，许多材料吸收EUV，而不是反射EUV。蔡司开始开发由100层交替钼和硅制成反射镜，每层厚度为几纳米。劳伦斯·利弗莫尔国家实验室研究人员在1998年发表
请关闭浏览器阅读模式后查看本章节，否则可能部分章节内容会丢失。
