euv-lithography"target="_blank">https://www.asml.com/en/news/press-releases/2016/zeiss-and-asmlstrengthen-partnership-for-next-generation-of-euv-lithography。采访阿斯麦供应商高管，2021年。阿斯麦别无选择，只能依靠单一来源获得EUV光刻系统的关键部件。为了管理这一点，阿斯麦深入了解其供应商的源头，以了解风险。阿斯麦以投资形式回报某些供应商，比如2016年支付给蔡司10亿美元，为蔡司的研发提供资金。这样，所有供应商都达到了严格的标准。阿斯麦的首席执行官彼得·温宁克（PeterWennink）告诉一家供应商：“如果你不守规矩，我们就会把你买下来。”这并不是一个玩笑：阿斯麦最终买下了包括西盟在内的几家供应商，因为阿斯麦认为自己可以更好地管理它们。
伊戈尔·弗门科夫等，《批量制造EUV光源：技术、性能和功率放大》（LightSourcesforHigh-VolumeManufacturingEUVLithography:Technology，Performance，andPowerScaling），《先进光学技术》（AdvancedOpticalTechnologies），第6卷，第3-4期，2017年6月8日。结果，一台拥有数十万个部件的机器，花费了数百亿美元和几十年的时间来研发。奇迹不仅仅在于EUV光刻技术的成功，还在于EUV光刻技术能够以足够可靠的成本生产芯片。极端的可靠性对于EUV光刻系统中的任何部件都至关重要。阿斯麦为每个部件设定了一个平均使用时间至少为3万小时的目标——大约四年后才需要维修。实际上，这些部件需要频繁地进行维修，因为每个部件不是同时失效的。每台EUV光刻机的成本超过1亿美元，因此如果每台机器离线一小时，芯片制造商就会损失数千美元。
这里对计算光刻的描述借鉴吉姆·凯勒，《摩尔定律没有死》（Moore'sLawIsNotDead），加州大学伯克利分校电子工程和计算机科学系活动，YouTube视频，2019年9月18日，
