盛明安：“不用担忧反射镜能不能被打磨出来，你们只需要尽己所能考虑反射镜在光
收集和转化率这
单元里，能够被如何利用到极致。”
“数据、模型，不管失败成功，统统记录下来。”
盛明安语速打机关枪似，斩钉截铁、不容置喙，仿佛难度高到爆表光源系统在他眼里层次分明、井然有序，所有技术难点都可以被轻松解决。
光线利用率不到2%已经是优化其他性能所能够得到最佳数据，决定该性能优化决定性关键就是反射镜精度。
“精度必须以皮秒来计算。”
换句话说，光刻机所需反射镜精度必须打磨到万亿分之米。
盛明安：“用硅和钼反复镀膜，直到光线利用率达到国际标准。”
当下有人反驳：“都是纳米级镀膜，反复镀膜也会影响精度，工艺太难
！”
代光刻机光源系统还包括光纯化，但第四代、第五代激光器产生光源已经达到要求，只需要让光均匀化就行。
光是雕刻工具，由激光器产生，涉及三项技术指标即光刻分辨率、套刻精度和产能。
光刻分辨率有道计算公式，照公式调整影响因数从而提高光刻分辨率，这方面难度不大，但是受掩膜设计、抗蚀剂工艺等牵制，必须同时达到最佳化才能实现理想光刻分辨率。
套刻精度与光刻分辨率相关，直接受其影响。
至于产能，则与光源系统稳定相关。
难度多大？
最浅显易懂比喻便是将面直径不超过四十厘米反射镜放大至覆盖地面，其平面起伏不能超过根头发直径。
而光刻机所需反射镜多达四五十层，平面精度层比层要求更平整。
全球只有德国蔡司这家传承三代以上企业才造得出这种反射镜。
当然，反射镜不对华出口。
以上是对激光器要求，相对整个光源系统技术要求不算高，系统工程程序中最难步骤是光收集。
收集难度大，转化效率也低。
雷客坐在电脑前，操纵鼠标在软件里做精密计算：“所需极紫外光必须在真空下进行反射，不能被折射，因为它非常容易被吸收。真空腔内反射镜需要特殊镀膜，把这束光，从光源路引导到晶圆……经过十几次反射，最终剩下光线不到2%！”
围观过来研发部成员倒吸口凉气，虽早知光源转化率低，但听到这数字还是低得让他们心疼。
光源转化率低就意味着能量巨大消耗，最直观例子，台euv机器输出功率两百瓦左右，工作天，耗电三万度。
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