【佳能、尼康
时代消失
，光刻机百花齐放共竞争时代
去不复返，将来只有asml骑绝尘身影！】
【虽然不想承认，但欧美又在个重要领域里实现科技霸权！】
【诸位，配合英特尔、高通今年年初发布将于15年实现14nm核心处理器、年末实现10nm核心处理器新闻发布会食用，而国产光刻机还停留在365nm光波长第三代光刻机技术节点！】
【拉开两代，落后二十年。】
【华国被死死扼
可盛明安不清楚。
他虽不愿用前世记忆盗窃他人成果提前制造出国产光刻机，可前世是他完美解决euv产能低问题，因此习惯性顺手将这难题归入待解决列表之。
以至于后来举攻破该技术节点实现反超asml目标，实属意料之外。
***
15年5月份左右，国际半导体发生件大事。
他胸有成竹，心有沟壑。
他不必开口安慰，只要用平淡轻松口气下达每道指令就能安定实验室每个人退怯、不自信心。
“杜颂，打开你modelica先进行初步超精密激光器建模仿真。”
modelica是款可实现复杂物理系统仿真建模计算机语言软件，可用于光刻机某些超精密部件仿真建模。
杜颂：“已在创建。”
asml官网对外发布突破光刻机量产瓶颈，正式对外售出可量产14nm极紫外光刻机！
此举瞬间激起千层浪，全球各界媒体报道不休，半导体发烧友热闹得跟过年样纷纷发表讨论。国内贴吧、技术论坛和逼乎新帖不断，基本都是讨论asml这举措将带来怎
影响。
【光刻巨人：asml真正崛起！】
国内科技网对asml新闻标题被搬到国内电子发烧友论坛，论坛主搬来这标题就已经表明他对未来全球半导体地位划分认可。
【如标题所说，从今以后，asml是唯光刻巨人！】
他领着自己小组成员低头忙碌。
“雷客，你调整下光路结构。”
“好。”雷客示意助手打开opc（光学邻近矫正）软件，通过模型动态仿真结果计算查找表修正光与图案。
盛明安匍匐在桌案，设计市场需求激光光源，就目前技术发展而言，光刻机激光光源仍以激光等离子体为主。
驱动光源产生碎屑数量，光谱纯度，每提高个技术节点消耗功率和产能……其实日前最先进euv，其功率消耗大、产能低，再过五六年也未能完美解决这两个问题。
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