三个问题：工程、商业和地缘政治。在芯片制造
早期，晶体管尺寸很大，光刻机使用光波无关紧要。但是，摩尔定律已经发展到光波波长尺度（几百纳米，取决于光颜色），光波会严重影响光刻质量。到
20世纪90年代，最先进晶体管以数百纳米为单位进行度量，但人们已经有可能设想出长度只有十几纳米更小晶体管。
马克·L.斯查腾贝格（MarkL.Schattenburg），《三束会议历史，信息诞生和石版印刷战时代》（Historyofthe“ThreeBeams”Conference，theBirthoftheInformationandtheEraofLithographyWars），芯片，需要更先进光刻机。
些研究人员试图使用电子束来光刻，但电子束光刻技术速度始终不够快，无法大规模生产。其他人把赌注押在X射线或极紫外光上，每种都会与不同光刻胶化学物质发生反应。在年度国际光刻专家会议上，科学家们讨论哪种技术会获胜。位与会者说，现在是个在相互竞争工程师群体之间“光刻战争”时代。
寻找新最好光源“战争”，只是光刻未来三场竞赛中场。第二场竞赛是商业性，是关于哪家公司将制造下代光刻机。开发新光刻设备巨大成本推动行业集中，家或两家公司将主宰市场。在美国，GCA已经被清算，而硅谷集团（SiliconValleyGroup）——家从珀金埃尔默衍生出来光刻机公司，远远落后于市场领导者佳能和尼康。20世纪80年代，美国芯片制造商抵挡住日本挑战，但美国光刻机制造商没有。
佳能和尼康唯真正竞争对手是阿斯麦，这是家规模虽小但正在成长荷兰光刻机公司。1984年，荷兰电子公司飞利浦剥离内部光刻部门，创建阿斯麦。在芯片价格,bao跌导致GCA业务下滑同时，分拆时机也非常
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