三个问题:工程、商业和地缘政治。在芯片制造的早期,晶体管尺寸很大,光刻机使用的光波无关紧要。但是,摩尔定律已经发展到光波波长的尺度(几百纳米,取决于光颜色),光波会严重影响光刻的质量。到了20世纪90年代,最先进的晶体管以数百纳米为单位进行度量,但人们已经有可能设想出长度只有十几纳米的更小的晶体管。
马克·L.斯查腾贝格(MarkL.Schattenburg),《三束会议的历史,信息的诞生和石版印刷战的时代》(Historyofthe“ThreeBeams”Conference,theBirthoftheInformationandtheEraofLithographyWars),
寻找新的最好光源的“战争”,只是光刻未来三场竞赛中的一场。第二场竞赛是商业性的,是关于哪家公司将制造下一代光刻机。开发新光刻设备的巨大成本推动了行业的集中,一家或两家公司将主宰市场。在美国,GCA已经被清算,而硅谷集团(SiliconValleyGroup)——一家从珀金埃尔默衍生出来的光刻机公司,远远落后于市场领导者佳能和尼康。20世纪80年代,美国芯片制造商抵挡住了日本的挑战,但美国光刻机制造商没有。
佳能和尼康唯一真正的竞争对手是阿斯麦,这是一家规模虽小但正在成长的荷兰光刻机公司。1984年,荷兰电子公司飞利浦剥离内部光刻部门,创建了阿斯麦。在芯片价格,bao跌导致GCA业务下滑的同时,分拆的时机也非常