40 “没有 B 计划”（4 / 5）

英特尔和三星肯定会采用EUV光刻机，尽管这些公司对何时以及如何采用EUV光刻机有不同策略。格芯则没有那自信，它在28纳米工艺上遇到困难。为减少延迟风险，格芯决定从三星获得14纳米工艺许可，而不是自行开发。这决定显示格芯对自己研发工作缺乏信心。

采访三名格芯前高管，其中人关注EUV光刻机，2021年。关于研发支出，请参见格芯IPO（首次公开募股）招股说明书，美国证券交易委员会（SecurityandExchangeCommission），2021年10月4日，第81页，https://www.sec.gov/Archives/edgar/data/0001709048/000119312521290644/d192411df1.htm。另请参见马克·吉尔伯特（MarkGilbert），《第四季度就业保持强劲前景，以准备2019年第季度》（Q4HiringRemainsStrongOutlookforQ12019），SemiWiki，2018年11月4日，https://semiwiki.com/semiconductor-manufacturers/globalfoundries/7749-globalfoundries-pivot-explained/q。到2018年，格芯已经购买几台EUV光刻机，并将其安装在最先进8号工厂里。后来，格芯高管命令公司停止这项工作。“EUV计划”被取消，格芯放弃生产新尖端节点芯片。格芯不会追求基于EUV光刻7纳米工艺，该工艺已经花费15亿美元开发成本，还需要相当数量额外支出才能上线。台积电、英特尔和三星财务状况都